
光纤行业
光纤预制棒生产过程中的除尘
改良化学气相沉积法(MCVD)、外部气相沉积法(OVD)和轴向气相沉积法(VAD)都属于气相沉积(Vapor Deposition)技术,其核心是利用化学反应在高温下产生玻璃前驱体,进而形成多孔的“玻璃烟灰”(Soot),最后烧结成透明的玻璃预制棒。这个过程中产生的烟气和颗粒物是主要的除尘对象。 尘源与粉尘特性 在 VAD、OVD 和 MCVD 工艺中,主要的尘源并非传统的机械粉尘,而是化学反应的副产物和未沉积的微细颗粒物。 化学反应副产物: 这些工艺通常使用氯化物作为玻璃原料(如 SiCl₄ 、GeCl₄ ),在高温下与氧气、氢气等反应生成二氧化硅(SiO₂ )和掺杂剂氧化物。反应会产生副产物氯化氢(HCl),这是一种强腐蚀性气体,对除尘系统有极大的腐蚀性。 未沉积的“烟灰”(Soot): 在反应过程中,并非所有的玻璃前驱体都能完全沉积到预制棒上。部分亚微米级甚至纳米级的 SiO₂ 和掺杂剂颗粒会随着废气排出,形成肉眼不可见的细微粉尘。 高温烟气: 反应过程在…

